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光學儀器及設備
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KLA-Tencor 2351 晶圓檢測儀是一種先進的晶圓和掩模檢測系統,廣泛應用于半導體制造行業。該系統具備多種功能,包括高分辨率成像、自動化分析以及專門的缺陷檢測和過程改進設備。它利用激光掃描技術來檢測和分類半導體晶片上的缺陷,以提高產率,并提供全場自上而下的掃描、600倍或1000倍放大資產等高性能缺陷審查模型。
KLA-Tencor 2135 晶圓檢測儀是一種高duan的掩模和晶圓檢測系統,具有多種先進技術和高靈敏度成像功能。以下是其詳細規格參數: 用途:主要用于圖案化晶圓的缺陷檢測,以監控生產過程中的顆粒和缺陷,從而提高產量。 晶圓尺寸:目前配置為200毫米(8英寸)晶圓,但可以處理4英寸、5英寸和6英寸的晶圓。 吞吐量:大約為每小時8至20個晶圓。 靈敏度:能夠檢測大于0.25微米的像素。
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